Produkty

View as

Łódź waflowa SiC

Łódka waflowa SiC firmy VeTek Semiconductor to produkt o bardzo wysokiej wydajności. Nasza łódź waflowa SiC jest zwykle stosowana w piecach do utleniania i dyfuzji półprzewodników, aby zapewnić równomierny rozkład temperatury na płytce i poprawić jakość przetwarzania płytki krzemowej. Wysoka stabilność temperaturowa i wysoka przewodność cieplna materiałów SiC zapewniają wydajną i niezawodną obróbkę półprzewodników. Zależy nam na dostarczaniu produktów wysokiej jakości po konkurencyjnych cenach i nie możemy się doczekać, aby zostać Twoim długoterminowym partnerem w Chinach.

Czytaj więcej Wyślij zapytanie

Rura procesowa SiC

VeTek Semiconductor dostarcza wysokowydajne rury procesowe SiC do produkcji półprzewodników. Nasze rury procesowe SiC wyróżniają się procesami utleniania i dyfuzji. Dzięki najwyższej jakości i kunsztowi wykonania lampy te zapewniają stabilność w wysokiej temperaturze i przewodność cieplną, co pozwala na wydajne przetwarzanie półprzewodników. Oferujemy konkurencyjne ceny i staramy się być Twoim długoterminowym partnerem w Chinach.

Czytaj więcej Wyślij zapytanie

Wiosło wspornikowe SiC

VeTek Semiconductor's SiC Cantilever Paddle is a very high performance product. Our SiC Cantilever Paddle is usually used in heat treatment furnaces for handling and supporting silicon wafers, chemical vapor deposition (CVD) and other processing processes in semiconductor manufacturing processes. The high temperature stability and high thermal conductivity of SiC material ensure high efficiency and reliability in the semiconductor processing process. We are committed to providing high-quality products at competitive prices and look forward to becoming your long-term partner in China.

Czytaj więcej Wyślij zapytanie

Susceptor planetarny ALD

Proces ALD, oznacza proces epitaksji warstwy atomowej. Producenci systemów Vetek Semiconductor i ALD opracowali i wyprodukowali susceptory planetarne ALD pokryte SiC, które spełniają wysokie wymagania procesu ALD w zakresie równomiernego rozprowadzania przepływu powietrza po podłożu. Jednocześnie powłoka CVD SiC firmy Vetek Semiconductor o wysokiej czystości zapewnia czystość procesu. Zapraszamy do omówienia z nami współpracy.

Czytaj więcej Wyślij zapytanie

Pierścień prowadzący z powłoką TaC

Pierścień prowadzący powłokę TaC firmy VeTek Semiconductor powstaje poprzez nałożenie powłoki węglika tantalu na części grafitowe przy użyciu wysoce zaawansowanej techniki zwanej chemicznym osadzaniem z fazy gazowej (CVD). Metoda ta jest dobrze ugruntowana i oferuje wyjątkowe właściwości powłokowe. Dzięki zastosowaniu pierścienia prowadzącego powłoki TaC można znacznie wydłużyć żywotność elementów grafitowych, ograniczyć przemieszczanie się zanieczyszczeń grafitowych i niezawodnie utrzymać jakość monokryształów SiC i AIN. Zapraszamy do zapytania nas.

Czytaj więcej Wyślij zapytanie

Susceptor grafitowy pokryty TaC

Susceptor grafitowy powlekany TaC firmy VeTek Semiconductor wykorzystuje metodę chemicznego osadzania z fazy gazowej (CVD) w celu przygotowania powłoki z węglika tantalu na powierzchni części grafitowych. Proces ten jest najbardziej dojrzały i ma najlepsze właściwości powłokowe. Susceptor grafitowy pokryty TaC może przedłużyć żywotność komponentów grafitowych, hamować migrację zanieczyszczeń grafitowych i zapewnić jakość epitaksji. Firma VeTek Semiconductor z niecierpliwością czeka na Twoje zapytanie.

Czytaj więcej Wyślij zapytanie

<...10 11 12 13 14...27 >