Uchwyt pokryty węglikiem tantalu

VeTek Semiconductor jest wiodącym producentem i innowatorem uchwytów pokrytych węglikiem tantalu w Chinach. Od wielu lat specjalizujemy się w powlekaniu TaC. Nasze produkty charakteryzują się wysoką czystością i odpornością na wysoką temperaturę do 2000 ℃. Nie możemy się doczekać, aby zostać Twoim długoterminowym partnerem w Chinach.

Wyślij zapytanie

Opis produktu

VeTek Semiconductor dostarcza wysokiej jakości uchwyt pokryty węglikiem tantalu i części z powłoką SiC w konkurencyjnej cenie. Zapraszamy do zapytania nas. Uchwyt VeTek Semiconductor pokryty węglikiem tantalu, zaprojektowany specjalnie dla systemu AIXTRON G10 MOCVD. To akcesorium zwiększa wydajność i jakość produkcji półprzewodników, zapewniając wyjątkową wydajność i niezawodność.

Wykonany z materiałów wysokiej jakości i precyzyjnie wykonany, uchwyt posiada podłoże grafitowe pokryte węglikiem tantalu CVD (TaC). Powłoka ta zapewnia doskonałą stabilność termiczną, wysoką czystość i odporność na wysokie temperatury. Zapewnia niezawodne działanie w wymagających warunkach procesów MOCVD.

Uchwyt można dostosować do różnych rozmiarów płytek półprzewodnikowych, dzięki czemu nadaje się do różnych wymagań produkcyjnych. Jego solidna konstrukcja minimalizuje przestoje i koszty konserwacji związane z nośnikami i susceptorami płytek.

Dzięki uchwytowi VeTek Semiconductor z powłoką z węglika tantalu, system AIXTRON G10 MOCVD osiąga wyższą wydajność i doskonałe wyniki w produkcji półprzewodników. Jego wyjątkowa stabilność termiczna, kompatybilność z różnymi rozmiarami płytek i niezawodne działanie sprawiają, że jest to niezbędne narzędzie do optymalizacji wydajności produkcji i osiągania wyjątkowych wyników w wymagającym środowisku MOCVD.

Parametr produktu uchwytu powlekanego węglikiem tantalu

Właściwości fizyczne powłoki TaC
Gęstość	14,3 (g/cm3)
Specyficzna emisyjność	0.3
Współczynnik rozszerzalności cieplnej	6,3 10-6/K
Twardość (HK)	2000 HK
Opór	1×10-5 omów*cm
Stabilność termiczna	<2500 ℃
Zmiany rozmiaru grafitu	-10~-20um
Grubość powłoki	Typowa wartość ≥20um (35um±10um)