LPE SiC Epi Halfmoon firmy VeTek Semiconductor, rewolucyjny produkt zaprojektowany w celu usprawnienia procesów epitaksji SiC w reaktorze LPE. To najnowocześniejsze rozwiązanie oferuje kilka kluczowych funkcji, które zapewniają doskonałą wydajność i efektywność w całej operacji produkcyjnej. Nie możemy się doczekać nawiązania z Tobą długoterminowej współpracy.
Jako profesjonalny producent, firma VeTek Semiconductor pragnie zapewnić Państwu wysokiej jakości LPE SiC Epi Halfmoon.
LPE SiC Epi Halfmoon firmy VeTek Semiconductor, rewolucyjny produkt zaprojektowany w celu usprawnienia procesów epitaksji SiC w reaktorze LPE. To najnowocześniejsze rozwiązanie oferuje kilka kluczowych funkcji, które zapewniają doskonałą wydajność i efektywność w całej operacji produkcyjnej.
LPE SiC Epi Halfmoon oferuje wyjątkową precyzję i dokładność, gwarantując równomierny wzrost i wysokiej jakości warstwy epitaksjalne. Innowacyjna konstrukcja i zaawansowane techniki produkcji zapewniają optymalne wsparcie płytek i zarządzanie temperaturą, zapewniając spójne wyniki i minimalizując defekty.
Ponadto LPE SiC Epi Halfmoon pokryty jest najwyższej jakości warstwą węglika tantalu (TaC), zwiększającą jego wydajność i trwałość. Ta powłoka TaC znacznie poprawia przewodność cieplną, odporność chemiczną i odporność na zużycie, zabezpieczając produkt i wydłużając jego żywotność.
Integracja powłoki TaC w LPE SiC Epi Halfmoon zapewnia znaczną poprawę przepływu procesu. Poprawia zarządzanie ciepłem, zapewniając efektywne odprowadzanie ciepła i utrzymanie stabilnej temperatury wzrostu. To udoskonalenie prowadzi do zwiększonej stabilności procesu, zmniejszenia naprężeń termicznych i poprawy ogólnej wydajności.
Co więcej, powłoka TaC minimalizuje zanieczyszczenie materiału, zapewniając czystość i nie tylko
kontrolowany proces epitaksji. Działa jako bariera przed niepożądanymi reakcjami i zanieczyszczeniami, co skutkuje wyższą czystością warstw epitaksjalnych i lepszą wydajnością urządzenia.
Wybierz moduł LPE SiC Epi Halfmoon firmy VeTek Semiconductor, aby uzyskać niezrównane procesy epitaksji. Poznaj zalety zaawansowanej konstrukcji, precyzji i mocy transformacji powłoki TaC w optymalizacji operacji produkcyjnych. Podnieś swoją wydajność i osiągaj wyjątkowe wyniki dzięki wiodącemu w branży rozwiązaniu VeTek Semiconductor.
Właściwości fizyczne powłoki TaC | |
Gęstość | 14,3 (g/cm3) |
Specyficzna emisyjność | 0.3 |
Współczynnik rozszerzalności cieplnej | 6,3 10-6/K |
Twardość (HK) | 2000 HK |
Opór | 1×10-5 omów*cm |
Stabilność termiczna | <2500 ℃ |
Zmiany rozmiaru grafitu | -10~-20um |
Grubość powłoki | Typowa wartość ≥20um (35um±10um) |