Receptor Aixtron MOCVD

Jako profesjonalny producent i dostawca susceptorów Aixtron MOCVD w Chinach, susceptor Aixtron MOCVD firmy Vetek Semiconductor jest szeroko stosowany w procesie osadzania cienkowarstwowego w produkcji półprzewodników, zwłaszcza w procesie MOCVD. Vetek Semiconductor koncentruje się na produkcji i dostarczaniu wysokowydajnych produktów Aixtron MOCVD Susceptor. Witamy w zapytaniu.

Wyślij zapytanie

Opis produktu

Susceptory produkowane przezFirma półprzewodnikowa Vetekwykonane są z podłoża grafitowego i materiału powłokowego z węglika krzemu (SiC). Biorąc pod uwagę wyższą odporność na zużycie, odporność na korozję i wyjątkowo wysoką twardość materiału SiC, szczególnie nadaje się on do stosowania w trudnych warunkach procesowych. Dlatego też susceptory produkowane przez Vetek Semiconductor mogą być bezpośrednio stosowane w wysokotemperaturowych procesach MOCVD bez dodatkowej obróbki powierzchni.

Susceptory są kluczowymi elementami w produkcji półprzewodników, zwłaszcza w sprzęcie MOCVD do procesów osadzania cienkowarstwowych. Główną roląOdbiornik Aixtron SiCw procesie MOCVD polega na przenoszeniu płytek półprzewodnikowych, zapewnieniu równomiernego i wysokiej jakości osadzania cienkich warstw poprzez zapewnienie równomiernego rozprowadzania ciepła i środowiska reakcji, a tym samym osiągnięcie wysokiej jakości produkcji cienkowarstwowej.

Receptor Aixtron MOCVDjest zwykle używany do podpierania i mocowania podstawy płytek półprzewodnikowych, aby zapewnić stabilność płytki podczas procesu osadzania. Jednocześnie powłoka powierzchniowa susceptora Aixtron MOCVD jest wykonana z węglika krzemu (SiC), materiału o wysokiej przewodności cieplnej. Powłoka SiC zapewnia równomierną temperaturę na powierzchni płytki, a równomierne nagrzewanie jest niezbędne do uzyskania folii o wysokiej jakości.

Co więcej,Receptor Aixtron MOCVDprodukujemy, odgrywa większą rolę w kontrolowaniu przepływu i dystrybucji gazów reaktywnych poprzez zoptymalizowaną konstrukcję materiałów. Aby uzyskać równomierne osadzanie powłoki, należy unikać prądów wirowych i gradientów temperatury.

Co ważniejsze, w procesie MOCVD materiał powłokowy z węglika krzemu (SiC) jest odporny na korozję, więcFirma półprzewodnikowa Vetek'SReceptor Aixtron MOCVDmoże również wytrzymać wysokie temperatury i gazy korozyjne.

Podstawowe właściwości fizycznePOWŁOKA SIC: