Dom > Produkty > Powłoka z węglika krzemu > Technologia MOCVD > Susceptor epitaksjalny MOCVD do płytki 4-calowej
Susceptor epitaksjalny MOCVD do płytki 4-calowej
  • Susceptor epitaksjalny MOCVD do płytki 4-calowejSusceptor epitaksjalny MOCVD do płytki 4-calowej
  • Susceptor epitaksjalny MOCVD do płytki 4-calowejSusceptor epitaksjalny MOCVD do płytki 4-calowej

Susceptor epitaksjalny MOCVD do płytki 4-calowej

VeTek Semiconductor to profesjonalny producent i dostawca, którego celem jest dostarczanie wysokiej jakości susceptora epitaksjalnego MOCVD do płytki 4-calowej. Dzięki bogatemu doświadczeniu branżowemu i profesjonalnemu zespołowi jesteśmy w stanie dostarczać naszym klientom fachowe i wydajne rozwiązania.

Wyślij zapytanie

Opis produktu

VeTek Semiconductor to profesjonalny lider w Chinach. Susceptor epitaksjalny MOCVD do producenta płytek 4-calowych, charakteryzujący się wysoką jakością i rozsądną ceną. Zapraszamy do kontaktu. Susceptor epitaksjalny MOCVD do płytek 4-calowych jest kluczowym elementem chemicznego osadzania metaloorganicznego z fazy gazowej (MOCVD). proces, który jest szeroko stosowany do wzrostu wysokiej jakości cienkich warstw epitaksjalnych, w tym azotku galu (GaN), azotku glinu (AlN) i węglika krzemu (SiC). Susceptor służy jako platforma do utrzymywania podłoża podczas procesu wzrostu epitaksjalnego i odgrywa kluczową rolę w zapewnieniu równomiernego rozkładu temperatury, wydajnego przenoszenia ciepła i optymalnych warunków wzrostu.

Susceptor epitaksjalny MOCVD do płytek 4-calowych jest zwykle wykonany z grafitu o wysokiej czystości, węglika krzemu lub innych materiałów o doskonałej przewodności cieplnej, obojętności chemicznej i odporności na szok termiczny.


Aplikacje:

Susceptory epitaksjalne MOCVD znajdują zastosowanie w różnych gałęziach przemysłu, m.in.:

Energoelektronika: rozwój tranzystorów o wysokiej ruchliwości elektronów (HEMT) na bazie GaN do zastosowań wymagających dużej mocy i wysokiej częstotliwości.

Optoelektronika: rozwój diod elektroluminescencyjnych (LED) i diod laserowych na bazie GaN na potrzeby wydajnych technologii oświetleniowych i wyświetlaczy.

Czujniki: rozwój czujników piezoelektrycznych na bazie AlN do wykrywania ciśnienia, temperatury i fal akustycznych.

Elektronika wysokotemperaturowa: rozwój urządzeń zasilających na bazie SiC do zastosowań wysokotemperaturowych i dużej mocy.


Parametr produktu susceptora epitaksjalnego MOCVD do płytki 4-calowej

Właściwości fizyczne grafitu izostatycznego
Nieruchomość Jednostka Typowa wartość
Gęstość nasypowa g/cm3 1.83
Twardość HSD 58
Rezystancja mΩ.m 10
Wytrzymałość na zginanie MPa 47
Wytrzymałość na ściskanie MPa 103
Wytrzymałość na rozciąganie MPa 31
Moduł Younga GPa 11.8
Rozszerzalność cieplna (CTE) 10-6K-1 4.6
Przewodność cieplna W·m-1·K-1 130
Średnia wielkość ziarna um 8-10
Porowatość % 10
Zawartość popiołu ppm ≤10 (po oczyszczeniu)

Uwaga: Przed powlekaniem wykonamy pierwsze oczyszczanie, po powlekaniu wykonamy drugie oczyszczanie.


Podstawowe właściwości fizyczne powłok CVD SiC
Nieruchomość Typowa wartość
Struktura krystaliczna Polikrystaliczna faza β FCC, głównie zorientowana na (111).
Gęstość 3,21 g/cm3
Twardość Twardość 2500 Vickersa (obciążenie 500 g)
Wielkość ziarna 2 ~ 10 µm
Czystość chemiczna 99,99995%
Pojemność cieplna 640 J·kg-1·K-1
Temperatura sublimacji 2700 ℃
Wytrzymałość na zginanie 415 MPa RT 4-punktowy
Moduł Younga Zakręt 430 Gpa, 4-punktowy, 1300 ℃
Przewodność cieplna 300W·m-1·K-1
Rozszerzalność cieplna (CTE) 4,5×10-6K-1


Sklep produkcyjny półprzewodników VeTek


Gorące Tagi: Susceptor epitaksjalny MOCVD do płytki 4-calowej, Chiny, producent, dostawca, fabryka, dostosowane, kup, zaawansowane, trwałe, wyprodukowane w Chinach
Powiązana kategoria
Wyślij zapytanie
Prosimy o przesłanie zapytania w poniższym formularzu. Odpowiemy ci w ciągu 24 godzin.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept