Produkty

View as  
 
Sufit pokryty powłoką CVD SiC

Sufit pokryty powłoką CVD SiC

Jako profesjonalny producent i dostawca sufitów z powłoką CVD SiC w Chinach, sufit z powłoką CVD SiC firmy VeTek Semiconductor ma doskonałe właściwości, takie jak odporność na wysoką temperaturę, odporność na korozję, wysoką twardość i niski współczynnik rozszerzalności cieplnej, co czyni go idealnym wyborem materiału do produkcji półprzewodników. Cieszymy się na dalszą współpracę z Państwem.

Czytaj więcejWyślij zapytanie
Spódnica pokryta CVD SiC

Spódnica pokryta CVD SiC

VeTek Semiconductor jest wiodącym producentem, innowatorem i liderem powłok CVD SiC i TAC w Chinach. Od wielu lat koncentrujemy się na różnych produktach z powłoką CVD SiC, takich jak spódnica pokryta CVD SiC, pierścień powłoki CVD SiC, nośnik powłoki CVD SiC itp. Firma VeTek Semiconductor wspiera niestandardowe usługi produktowe oraz zadowalające ceny produktów i z niecierpliwością oczekuje na dalsze konsultacja.

Czytaj więcejWyślij zapytanie
Przegroda z powłoką CVD SiC

Przegroda z powłoką CVD SiC

Przegroda z powłoką CVD SiC firmy Vetek Semiconductor jest stosowana głównie w epitaksji Si. Zwykle stosuje się go z silikonowymi tulejami przedłużającymi. Łączy w sobie wyjątkową wysoką temperaturę i stabilność przegrody z powłoką CVD SiC, co znacznie poprawia równomierny rozkład przepływu powietrza w produkcji półprzewodników. Wierzymy, że nasze produkty mogą zapewnić zaawansowaną technologię i wysokiej jakości rozwiązania produktowe.

Czytaj więcejWyślij zapytanie
Cylinder grafitowy CVD SiC

Cylinder grafitowy CVD SiC

Cylinder grafitowy CVD SiC firmy Vetek Semiconductor odgrywa kluczową rolę w sprzęcie półprzewodnikowym, służąc jako osłona ochronna w reaktorach, chroniąca elementy wewnętrzne w wysokich temperaturach i ciśnieniach. Skutecznie chroni przed chemikaliami i ekstremalnymi temperaturami, zachowując integralność sprzętu. Dzięki wyjątkowej odporności na zużycie i korozję zapewnia trwałość i stabilność w trudnych warunkach. Stosowanie tych osłon poprawia wydajność urządzeń półprzewodnikowych, wydłuża ich żywotność oraz ogranicza wymagania konserwacyjne i ryzyko uszkodzeń. Zapraszamy do zapytania nas.

Czytaj więcejWyślij zapytanie
Dysza do powlekania CVD SiC

Dysza do powlekania CVD SiC

Dysze do powlekania CVD SiC firmy Vetek Semiconductor to kluczowe elementy stosowane w procesie epitaksji LPE SiC do osadzania materiałów z węglika krzemu podczas produkcji półprzewodników. Dysze te są zazwyczaj wykonane z odpornego na wysoką temperaturę i chemicznie stabilnego materiału węglika krzemu, aby zapewnić stabilność w trudnych warunkach przetwarzania. Zaprojektowane z myślą o równomiernym osadzaniu, odgrywają kluczową rolę w kontrolowaniu jakości i jednorodności warstw epitaksjalnych wytwarzanych w zastosowaniach półprzewodnikowych. Nie mogę się doczekać nawiązania z Państwem długoterminowej współpracy.

Czytaj więcejWyślij zapytanie
Zabezpieczenie powłoki CVD SiC

Zabezpieczenie powłoki CVD SiC

Firma Vetek Semiconductor zapewnia powłokę ochronną CVD SiC. Stosowanym środkiem jest epitaksja LPE SiC. Termin „LPE” zwykle odnosi się do epitaksji niskociśnieniowej (LPE) w niskociśnieniowym osadzaniu chemicznym z fazy gazowej (LPCVD). W produkcji półprzewodników LPE jest ważną technologią procesową do hodowli cienkich warstw monokrystalicznych, często stosowaną do hodowli warstw epitaksjalnych krzemu lub innych warstw epitaksjalnych półprzewodników. W celu uzyskania dalszych pytań prosimy o kontakt.

Czytaj więcejWyślij zapytanie
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept