Porowaty grafit z powłoką TaC

Porowaty grafit z powłoką TaC to zaawansowany materiał do obróbki półprzewodników dostarczany przez firmę VeTek Semiconductor. Porowaty grafit z powłoką TaC łączy w sobie zalety powłoki z porowatego grafitu i węglika tantalu (TaC) z dobrą przewodnością cieplną i przepuszczalnością gazów. Firma VeTek Semiconductor angażuje się w dostarczanie produktów wysokiej jakości po konkurencyjnych cenach i nie możemy się doczekać, aby zostać Twoim długoterminowym partnerem w Chinach.

Wyślij zapytanie

Opis produktu

VeTek Semiconductor to chiński producent i dostawca, który zajmuje się głównie produkcjąPorowaty grafitz powłoką TaC Coated z wieloletnim doświadczeniem. Mam nadzieję zbudować z Tobą relacje biznesowe.

VeTek Semiconductor Porous Graphite with TaC Coated to rewolucyjny materiał do produkcji półprzewodników, który doskonale łączy porowaty grafit z powłoką z węglika tantalu (TaC). Ten porowaty grafit z powłoką TaC charakteryzuje się doskonałą przepuszczalnością i wysoką porowatością, przy maksymalnej porowatości 75%, ustanawiając międzynarodowy rekord w branży. Powłoka TaC o wysokiej czystości nie tylko zwiększa odporność porowatego grafitu na korozję i zużycie, ale także zapewnia dodatkową warstwę ochronną, skutecznie rozwiązując wyzwania, takie jak przetwarzanie i korozja.

Zastosowanie porowatego grafitu pokrytego TaC może znacznie poprawić wydajność i jakość procesu produkcji półprzewodników. Jego doskonała przepuszczalność zapewnia stabilność materiału w warunkach wysokiej temperatury i skutecznie kontroluje wzrost zanieczyszczeń węglowych. Jednocześnie konstrukcja o wysokiej porowatości zapewnia lepszą wydajność dyfuzji gazu, co pomaga w utrzymaniu czystego środowiska wzrostu.

Naszym celem jest dostarczanie klientom doskonałego porowatego grafitu z materiałami pokrytymi TaC, aby sprostać potrzebom przemysłu produkującego półprzewodniki. Niezależnie od tego, czy chodzi o laboratoria badawcze, czy o produkcję przemysłową, ten zaawansowany materiał może pomóc w osiągnięciu doskonałej wydajności i niezawodności. Skontaktuj się z nami już dziś, aby dowiedzieć się więcej o tym rewolucyjnym materiale i rozpocząć swoją podróż w kierunku innowacji, aby napędzać produkcję półprzewodników.

Metoda PVT Wzrost kryształów SiC

PVT method SiC Crystal Growth working diagram

Parametr produktu porowatego grafitu z powłoką TaC

Właściwości fizyczne powłoki TaC
Gęstość powłoki TaC	14,3 (g/cm3)
Specyficzna emisyjność	0.3
Współczynnik rozszerzalności cieplnej	6,3 10^-6/K
Twardość powłoki TaC (HK)	2000 HK
Opór	1×10^-5Om*cm
Stabilność termiczna	<2500 ℃
Zmiany rozmiaru grafitu	-10~-20um
Grubość powłoki	Typowa wartość ≥20um (35um±10um)